1980年左右，中科院半导体所开始研制JK-1型半自动接近式光刻🕬机，于1981年研制成功两台样机。
而由于美国在50年代💓就已经拥有了接触式光刻机，相比之下，中国落后了将近20年，同时国外从1978年开始转向分步重复投影光刻，此时中国科学界也认识到，分布投影光刻技术的优越性，但限于国内工业技术差难以实现。
在1978年世界上第1台DSW光刻机问世不久，机电部第45所，就开始跟踪研究分步式光刻机，对标美国的4800DSW，1985年研制出了BG-101分部光刻机样机，并通过电子部技术鉴定，认为达到了美国同类产品水平，而当时采用的是436纳米📖🚶G线光源。
这也就意😋味着1985年的时候，中国在高科技领域与🜡🃨国外的差🅷距拉近到了7年左右，也就是达到了美国1978年的水平。
可以看出国产光刻机。研发在上世纪70年代后期起不直到80年代，后期技术一直在推进，并且取得了👽🎘👗一定的代表性成果。
然而到了80年代中后期，中国却因为技术封锁以及买🜡🃨办思想盛行，造成了🖗💯光刻机的落后。
当时的巴统协议不批准向中国出售先进的设备，国外工艺线已用0.5微米的设备时，🄅🞙却只对我国出口1.5微米的设备🝻🐚🀙，整整差了三代，此外8组还规定对我国出口的光刻🄶机镜头na必须小于0.17，既只能有二微米以上的分辨率。
所以说目前段云从日本东芝引进的三微米芯片制程生产线，是正好符合巴统协议要求的🄅🞙，而目前日本最先进的0.9微米制程的芯片生产线，是巴统🌠🀢⚈协议严格禁止对中国出口的。
段云如果想制作出一微米制程的芯片，目前是不可能从🜡🃨国外直🐙接买到现成设备的，只能靠国内🗯研发。
因为买办思🞽想的盛行，当时中国的光刻机虽然技术领先，但是也遇到很多的问题，因为搞研发就需要🁕🅥🈫有很多的资金投入，但这些资金投入之后，有一些技术上的问题，在当时又不能够很好的解决，因此看到国外很多先进的设备之后，国家也就放弃了，对设备的研发变成了购买。
这样最终就导致了中国的光刻机研发上完全停滞，很多搞光刻机研发公司因为没有资金的支🀽🂏🍴持就变得岌🌊♀岌可危，最后公司也倒闭破产。
段云如果想制作出世界领先的NAND闪存芯片，并且在闪存芯片领域保持长期的优势地位，🗯那就必须要有更🜵先进的光刻机。
在摩尔定律下，每18个月集成电路上可容纳的晶体管数目就会增加一倍，这就需要生产芯片的光刻机保👽🎘👗持迭代。
段云可以选择投资🐧开发国产光刻机，🝪但投入的资🅹金比较大，而且周期也比较长，有点远水解不了近渴。
经过一番思考后，段云决定做两方面的准备，一方面就是和国内的科研🅋🅄院所相关机构合作，共同开发工作机。
另外一方面就是要想方设法从国外直🝪接购买作为先进的一微米制成光刻机，解决当前的芯片生产线升级问题。
但是从哪一家购买光刻机却成了一个问题。
后世的人一提起光刻机，很容易就想起了荷兰的阿斯麦公司，而在19🅋🅄88年的时候，阿斯麦公司在光刻机领域并没有多大的名气，而且这家公司几乎濒临破产，甚至连发工资的钱都没有了。
早年💚的阿斯麦诞生于飞利浦物理实验室和飞利浦科学与工业部，城市一群天才科学家所说的玩具。
20世纪70年代荷兰经济衰退，出现经营危机的飞利浦丧失🐙了不😶🅸断的兴趣，想要🙥🌡将投资了上亿美元的阿斯麦实验室剥离出去。
最开始项目负责人找了三家公司洽谈光刻机的合作🔀♇🆑事宜，最终都以失败告终。
直到1⚰🕃984年的时候，SI😼🆬💬和ASM成立合资公司阿斯🜤🄇麦，双方各占50%股份。
但公司成立之初⚛💆，这家合资公司除了十几台光刻机库存，账户上只有30万美元。